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研磨液

GRISH研磨液包含多晶金剛石研磨液、類多晶金剛石研磨液、納米金剛石研磨液、CMP研磨液等。

研磨液


GRISH多晶金剛石研磨液

GRISH多晶金剛石研磨液(又稱鉆石拋光液,拋光液)全部使用我公司自產的聚晶金剛石微粉,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同時不易產生劃傷。產品研磨速率穩定,拋光表面一致性好。

應用:藍寶石、硒化鋅、激光晶體、光學晶體、玻璃、金屬、陶瓷等材料的研磨拋光;手表表盤、手機玻璃面板、攝像頭、硬盤磁頭、硬盤盤面、金剛石工具、模具等產品的磨拋加工。

粒度 (μm) 油性水性粒度(μm)油性水性
1/20PC-N50-OPC-N50-W1PC-1-OPC-1-W
1/10PC-N100-OPC-N100-W2PC-2-OPC-2-W
1/5PC-N200-OPC-N200-W3PC-3-OPC-3-W
1/4PC-N250-OPC-N250-W4PC-4-OPC-4-W
1/2PC-N500-OPC-N500-W6PC-6-OPC-6-W


GRISH類多晶金剛石研磨液

GRISH類多晶金剛石研磨液(簡稱RCD研磨液),是使用本公司生產的類多晶金剛石微粉,配合高分散性配方,可以在保持高切削力的同時不易產生劃傷。產品拋光速率穩定,產品表面一致性好。

又稱高自銳剛石研磨液,是類多晶金剛石微粉配合高分散性配方生產而成。類多晶金剛石磨粒表面粗糙,且具有自銳性,研磨過程匯與工件存在大量接觸點,有效提高并保持磨削速率;磨粒表面存在大量細小切削刃,可降低工件表面粗糙度。

應用:藍寶石、光學鏡片、硬質玻璃和晶體、超硬陶瓷、合金等材料的磨拋。

粒度(μm)水基油基主要用途
3RC-3-WRC-3-O藍寶石、硬質玻璃等材料的研磨拋光
4RC-4-WRC-4-O
5RC-5-WRC-5-O
10RC-10-WRC-10-O搭配研磨墊使用,可作為一種藍寶石研磨的替代解決方案




GRISH CMP拋光液

GRISH CMP拋光液是以硅溶膠為原料,針對不同研磨材料的特性進行獨特配方設計,保證拋光過程中PH值基本保持不變,從而保證拋光速率的穩定及節約拋光時間。 

二氧化硅膠體粒度細,拋光液穩定性和分散均一性好,對拋光工件表面的損傷層極微,可以得到較高的表面質量,廣泛用于納米材料的高平坦化拋光。通過調整拋光液PH值,提高產物的排除速率和加強化學反應,可以提高二氧化硅拋光液的拋光效率。

應用:硅、鍺、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、鉭酸鋰、陶瓷、藍寶石、金屬、玻璃等材料的拋光。光纖連接器、硬盤盤片、液晶面板、光學鏡頭、精密模具表面等產品拋光。


GRISH納米金剛石研磨液

GRISH納米金剛石研磨液(又稱拋光液,鉆石研磨液)包括聚晶、單晶和納米3種不同類型的拋光液。金剛石拋光液由金剛石微粉、復合分散劑和分散介質組成,配方多樣化,對應不同的研拋過程和工件,適用性強。產品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質量穩定,廣泛用于硬質材料的研磨和拋光。          

 

GRISH單晶金剛石研磨液

GRISH單晶金剛石研磨液具有良好的切削力,加工成本相對較低。廣泛適用于超硬材料的研磨拋光。

單晶金剛石研磨液具有良好的切削力,加工成本相對較低。廣泛適用于超硬材料的研磨拋光。

應用:藍寶石、硒化鋅、激光晶體、光學晶體、玻璃、金屬、陶瓷等材料的研磨拋光;手表表盤、手機玻璃面板、攝像頭、硬盤磁頭、硬盤盤面、金剛石工具、模具等產品的磨拋加工。


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