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GRISH氧化硅拋光液是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點

GRISH拋光絨布（又稱研磨布）是一種在聚酯薄膜表面植上絨毛的拋光制品，配合我公司自制的CMP拋光液用于光纖連接器最后一步精密拋光，主要有PGZ-1、PGZ-2（在PGZ-1的絨表面涂上納米級二氧化硅）和EF-5A這三種產品。

GRISH精密拋光布采用國際上先進的超精密涂布技術和先進的樹脂粘結技術，將精密研磨微粉均勻涂布于高強、耐磨的紡織面料上而成。

GRISHMPO/MTP拋光墊，具有極佳的相互連接的微孔結構，在進行拋光處理時能具備優異的拋光穩定性/耐磨性?？膳浜衔宜狙心ヒ合盗挟a品配套使用，適用于MPO/MTP的超精密拋光。

GRISH凹凸磨料系列產品是采用凹版印刷技術和微型結構重復技術，將精密磨料涂覆于基材上而成，有金字塔、正方形、棱柱形、菱形等可重復的三維圖形，有精細的磨具圖案?；y高度一致，具有一致持久的拋光能力。

GRISH納米金剛石研磨液（又稱拋光液，鉆石研磨液）包括聚晶、單晶和納米3種不同類型的拋光液。金剛石拋光液由金剛石微粉、復合分散劑和分散介質組成，配方多樣化，對應不同的研拋過程和工件，適用性強。產品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質量穩定，廣泛用于硬質材料的研磨和拋光。

我公司針對化合物半導體有對應的拋光工藝及耗材，包含碳化硅、氮化鋁、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦等，同時還承接各類代加工業務。

GRISH靜電植絨研磨帶是采用國際上先進的超精密涂布技術，將精密研磨微粉與新型高分子材料均勻分散后，涂布于復合植絨基材表面而成。該產品具有優異的緩沖性能和良好的清潔效果，廣泛應用于輥軸類產品研磨的最后一道拋光、LCD液晶面板偏光片貼附前的表面清潔（尤其適用于帶有ITO布線的面板）、光通信行業MT連接器的研磨和拋光。